Bereits 1983 trat Erich Buttmann in die Welt der Vakuum- und Plasma-Technik ein. Er arbeitete an Vakuumbeschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie, hauptsächlich in Europa aber auch in USA und Korea.
Ein größer Teil dieser PVD Anlagen funktionierten nach dem Kathodenzerstäubungsprinzip / (Sputtering). Ein anderer Teil funktionierte nach dem CVD Prinzip. Sämtliche Anlagentypen verfügten über Plasmavorbehandlung oder Reinigungsstationen.
Im weiteren Verlauf vertiefte er sein Wissen im Bereich von Plasmastromversorgungen die von normalen und gepulsten Gleichstrom über Nieder-, Mittel- zu Hochfrequenz (RF) Sinus-Generatoren mit Anpassnetzwerken / (Matching Boxes) reichten, wie sie bei der Beschichtung von Architekturglas, Armaturen, Automobilscheinwerfern, dekorativen Produkten, MEMS, Solarzellen, Werkzeugen sowie bei der Oberflächenaktivierung von Textilien und Kunststoffteilen in Edel- und Reaktivgasprozessen Anwendung finden. Hinzu kamen Closed Drift Ionenquellen für Oberflächenbehandlung bzw. Ionenätzen und Electron Cyclotron Resonance (ECR) Plasmaquellen für Prozessgasaktivierung und Abgasreinigung.
Später arbeitete er im Vertrieb für Vakuumkomponenten und Vakuumkammern, die für Feinvakuum, Hochvakuum (HV) und Ultrahochvakuum (UHV) konzipiert waren und in Industrie, Forschung und Wissenschaft bei chemischen Prozessen, Weltraumsimulation und Synchrotrons eingesetzt werden. Als weiteren Produktbereich waren Plasma Power Supplies für Arc-Verdampfer und Substrat-Bias sowie Magnetron Sputter Power Supplies mit DC, bipolar gepulstem DC, High-Power-Puls-Magnetron-Sputtering Netzgeräte für Einzel-Kathoden und gepulste Dual Magnetron Stromversorgungen für Doppel-Kathoden Prozess im Lieferprogramm.
Heute ist er selbst Lieferant von Vakuumkomponenten und freier Mitarbeiter von anderen Unternehmen. Darunter ist auch Robeko für Plasmabeschichtungszubehör und Systemkomponenten.
